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SK 海力士考慮引入高達 4 億美元 的 ASML 光刻機

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11 月 15 日消息傳來,在芯片制造領域引發(fā)了廣泛關注。韓國芯片大廠SK 海力士于昨天對外表示,公司正在考慮使用 ASML 公司造價高達 4 億美元的高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影系統設備,目的是用于生產下一代存儲器芯片。

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據路透社報道,SK 海力士技術長 Seon - yong Cha 在 14 日于荷蘭舉行的 ASML 投資人日上,通過預錄影片透露了這一重要信息,表明公司正在積極考慮引進這臺堪稱全球最昂貴的芯片制造設備。


盡管這臺設備價格不菲,但它的魅力卻無法阻擋。據悉,臺積電和英特爾等芯片行業(yè)的巨頭公司都已經下單購買。外媒在本月稍早時候引述消息人士的報道稱,臺積電訂購的 High - NA EUV 設備首批機件,將在年底前運抵臺灣。而英特爾更是早在幾個月前就已經收到了這臺設備,可見這些行業(yè)領先企業(yè)對這一先進設備的重視程度。

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半導體行業(yè)的動態(tài)變化對全球電子產業(yè)有著深遠影響。億配芯城?ICgoodFind作為電子元器件供應商,一直密切關注行業(yè)動態(tài)。SK 海力士考慮引入 ASML 高數值孔徑極紫外光設備的舉動意義重大,這不僅可能影響其自身下一代存儲器芯片的生產,也反映出整個芯片制造行業(yè)對先進設備的追求。臺積電、英特爾等公司的行動也表明了該設備在行業(yè)內的受重視程度。我們期待這些公司通過使用先進設備推動芯片技術發(fā)展,各方共同努力促進半導體產業(yè)持續(xù)進步,為全球科技和經濟發(fā)展做出更大貢獻。

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