10 月 30?日，中微公司發(fā)布 2025 年第三季度報(bào)告，業(yè)績(jī)表現(xiàn)亮眼：前三季度營(yíng)業(yè)收入達(dá)80.63 億元，同比激增 46.40%；凈利潤(rùn) 12.11 億元，同比增長(zhǎng) 32.66%，盈利能力穩(wěn)步提升。

分業(yè)務(wù)來(lái)看，核心業(yè)務(wù)刻蝕設(shè)備收入 61.01 億元，同比增長(zhǎng) 38.26%，持續(xù)貢獻(xiàn)主要營(yíng)收；LPCVD、ALD 等薄膜設(shè)備表現(xiàn)驚艷，收入 4.03 億元，同比暴漲 1332.69%，成為新的增長(zhǎng)引擎。研發(fā)投入力度顯著加大，前三季度研發(fā)支出 25.23 億元，同比增長(zhǎng) 63.44%，占營(yíng)收比例達(dá) 31.29%，遠(yuǎn)高于科創(chuàng)板均值，為技術(shù)突破奠定堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

凈利潤(rùn)增長(zhǎng)主要源于三方面：營(yíng)收增長(zhǎng)帶動(dòng)毛利增加 8.27 億元；研發(fā)提速支撐產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力提升；股權(quán)投資收益 3.29 億元，同比增加 2.75 億元。

產(chǎn)品端成果顯著：先進(jìn)邏輯與存儲(chǔ)刻蝕工藝實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)，60:1 超高深寬比介質(zhì)刻蝕設(shè)備成為國(guó)內(nèi)標(biāo)配，下一代 90:1 設(shè)備即將上市；ICP 刻蝕設(shè)備加工精度達(dá)單原子水平，進(jìn)展順利。薄膜設(shè)備性能躋身國(guó)際領(lǐng)先，已順利入市且覆蓋率持續(xù)提升；硅和鍺硅外延 EPI 設(shè)備完成量產(chǎn)驗(yàn)證獲客戶(hù)高度認(rèn)可，化合物半導(dǎo)體外延設(shè)備正推進(jìn)生產(chǎn)驗(yàn)證。此外，公司新品研發(fā)周期縮短至兩年內(nèi)，未來(lái)將加速推出多款新產(chǎn)品。

億配芯城（ICgoodFind）總結(jié)：中微公司業(yè)績(jī)高增彰顯技術(shù)實(shí)力，核心產(chǎn)品與新興業(yè)務(wù)齊發(fā)力，為半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化注入強(qiáng)勁動(dòng)力。